イオン発生装置、イオン照射装置、及び半導体装置の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-295768
公開番号（公開出願番号）：特開平9-147771
出願日： 1995年11月14日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】安定したイオン注入作業を実現するアークチャンバーを備えたイオン発生装置を提供する。【解決手段】本発明に係るイオン発生装置は、内部でプラズマが生成される容器51と、前記容器51に設けられ、前記プラズマによりイオン化するガスを導入する第1の開口部52と、前記イオン化により生成されたイオンを導出する第2の開口部53とを備え、前記容器51の内壁面に、前記イオン化により生成されるイオンやラジカルによる化学的エッチングに対して耐性を有する金属がコーティングされていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

内部でプラズマが生成される容器と、前記容器に設けられ、前記プラズマによりイオン化するガスを導入する第1の開口部と、前記イオン化により生成されたイオンを導出する第2の開口部とを備え、前記容器の内壁面は、前記イオン化により生成されるイオンやラジカルによる化学的エッチングに対して耐性を有する金属で形成されていることを特徴とするイオン発生装置。

IPC (6件)：

H01J 37/08 , C23F 4/00 , H01J 27/14 , H01J 27/18 , H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (6件)：

H01J 37/08 , C23F 4/00 C , H01J 27/14 , H01J 27/18 , H01J 37/317 Z , H01L 21/265 D

引用特許：

出願人引用 (2件)

イオン源
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-242705 出願人：日新電機株式会社
特開平1-095454

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