特許
J-GLOBAL ID：200903001891748428
マイクロ波反応処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
福地 武雄
, 白川 洋一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-056506
公開番号（公開出願番号）：特開2005-246138
出願日： 2004年03月01日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：
【課題】 大容積処理,高い均一処理化,高効率化ができかつ低コストでかつ使用上安全であることを同時に満足するマイクロ波反応処理装置を提供する。【解決手段】 気体状の物質を、誘電体の内部あるいは表面に接触させながら誘電体をマイクロ波表面波線路として用いながらマイクロ波を照射し分解を行う装置において、水分子ミストあるいは水蒸気膜を誘電体表面に形成しながら処理を行う。これにより、処理領域あるいは界面においてマイクロ波励起が均一均等で処理反応部を大面積に展開できる大容量処理が可能な装置であり、かつ反応処理において効率よく接触反応が行え、かつ低コスト処理である処理装置が提供できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
気体状の物質を、誘電体の内部あるいは表面に接触させながら前記誘電体をマイクロ波表面波線路として用いながらマイクロ波を照射し分解を行う装置において、水分子ミストあるいは水蒸気膜を前記誘電体表面に形成しながら処理を行うことを特徴とするマイクロ波反応処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
4G075AA03
, 4G075AA37
, 4G075BA05
, 4G075CA26
, 4G075CA51
, 4G075CA54
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EC21
, 4G075FA14
, 4G075FC15
