特許
J-GLOBAL ID:200903001909151858
コア粉体の存在下で化学蒸着法により珪素ベース超微粒子をコア粉に均一に塗布する方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-173157
公開番号(公開出願番号):特開平5-246786
出願日: 1992年06月30日
公開日(公表日): 1993年09月24日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、粉体に珪素ベースの超微粒子を均一に塗布する方法を提供することを目的とする。【構成】 セラミック等のコア粉体に珪素、酸化珪素、窒化珪素又はこれらの合金の超微粒子を塗布する方法であって、(a)CVD反応室への反応性ガス中において、コア粉体床からコア粉体を均一に懸濁させる工程と;(b)反応性供給ガス混合物の均一的分解により珪素、酸化珪素、窒化珪素又はこれらの合金の超微粒子を気相中において選択的に形成し、同時に懸濁コア粉体の表面にてCVDによるコア粉体の成長を抑制する工程と;(c)コア粉体に珪素、酸化珪素、窒化珪素又はこれらの合金の超微粒子を塗布する工程とを具備してなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
セラミック等のコア粉体に珪素、酸化珪素、窒化珪素又はこれらの合金の超微粒子を塗布する方法であって、(a)CVD反応室への反応性ガス中において、コア粉体床からコア粉体を均一に懸濁させる工程と;(b)反応性供給ガス混合物の均一的分解により珪素、酸化珪素、窒化珪素又はこれらの合金の超微粒子を気相中において選択的に形成し、同時に懸濁コア粉体の表面にてCVDによるコア粉体の成長を抑制する工程と;(c)コア粉体に珪素、酸化珪素、窒化珪素又はこれらの合金の超微粒子を塗布する工程と;を具備してなる方法。
前のページに戻る