特許
J-GLOBAL ID:200903001915594001

ワニス含浸装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 高橋 祥泰 ,  岩倉 民芳 ,  阿部 英幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-332388
公開番号(公開出願番号):特開2005-102404
出願日: 2003年09月24日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】回転電機の巻線コイルにワニスを均一に含浸させると共に含浸処理時間を短縮する。【解決手段】回転電機の巻線コイルにワニスを含浸させる含浸装置は、巻線コイルを配したワークSの一端部側からワーク内に挿入可能なチャック3によりワークを内径側で支持して回転させる回転装置2と、回転装置のチャックの隙間からワークのチャック挿入側端部のコイルエンドSciにワニスを滴下するチャック内ノズル61dを備える。チャック内ノズルは、回転装置の中空回転軸20を貫通して回転装置の端部まで延びる供給路60により、ワニス供給源に接続された。これにより、ワーク両端のコイルエンドにワークの内径側から均等にワニスを供給することができ、巻線コイルへのワニスの浸透が均一化し、且つ浸透時間が短縮する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
回転電機の巻線コイルにワニスを含浸させるべく、巻線コイルのコイルエンドにワニスを滴下するワニス含浸装置において、 巻線コイルを配したワークの一端部側からワーク内に挿入可能な支持手段によりワークを内径側で支持して回転させる回転装置と、該回転装置の支持手段の隙間からワークの回転装置支持手段挿入側端部のコイルエンドにワニスを滴下するノズルを備えることを特徴とするワニス含浸装置。
IPC (1件):
H02K15/12
FI (1件):
H02K15/12 D
Fターム (8件):
5H615AA01 ,  5H615BB01 ,  5H615BB02 ,  5H615BB14 ,  5H615PP01 ,  5H615PP12 ,  5H615RR07 ,  5H615SS42
引用特許:
出願人引用 (1件)

前のページに戻る