特許
J-GLOBAL ID：200903001943964329
高度吸収ポリマーを含む吸収構造体及びかかる吸収構造体を含む吸収物品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安達 光雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-504247
公開番号（公開出願番号）：特表2002-507933
出願日： 1997年06月24日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】架橋されたヒドロゲルを極性溶媒を用いて乾燥させることによって製造される多糖ベースの高度吸収材料を含む吸収物品。
請求項（抜粋）：
多糖ベースの高度吸収材料を含む吸収構造体において、前記高度吸収材料が架橋可能な多糖ベースのポリマーの形の開始材料を含む溶液の架橋及び乾燥によって製造されること(ただし前記開始材料は架橋反応後、液体膨潤ゲルの形で存在する)、及び架橋された液体膨潤ゲルが極性溶媒を用いた抽出によって乾燥されることを特徴とする吸収構造体。
IPC (8件)：
B01J 20/26
, A61F 13/49
, A61F 13/53
, A61L 15/60
, B32B 5/02
, C08L 1/26
, C08L 1/32
, A61F 5/44
B01J 20/26 D
, B32B 5/02 A
, C08L 1/26
, C08L 1/32
, A61F 5/44 H
, A41B 13/02 D
, A61F 13/18 307 A
