窒化珪素薄膜の形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河備健二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-358576
公開番号（公開出願番号）：特開平10-194873
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】ポリシラザン塗膜の焼成による窒化珪素膜の形成において、耐薬品性に優れ且つ高屈折率を有する良好な薄膜を形成させる方法を提供する。【解決手段】ペルヒドロポリシラザン又はその変性物を基材上に塗布した後、真空下に600°C以上の温度で焼成する。

請求項（抜粋）：

ペルヒドロポリシラザン又はその変性物を基材上に塗布した後、真空下に600°C以上の温度で焼成することを特徴とする窒化珪素薄膜の形成方法。

IPC (5件)：

C04B 41/87 , C01B 21/068 , C08L 83/16 , C23C 24/08 , H01L 21/318

FI (5件)：

C04B 41/87 D , C01B 21/068 Q , C08L 83/16 , C23C 24/08 C , H01L 21/318 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

審査官引用 (2件)

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