特許
J-GLOBAL ID：200903002002555415

光断層画像化装置

発明者：
戸井田 昌宏

戸井田 昌宏 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-067264
公開番号（公開出願番号）：特開2001-255265
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 低コヒーレンス干渉を用いて断層情報を取得する光断層画像化装置において、大型で高価な光源を使用せずに、高い分解能で断層情報を取得する。【解決手段】 ファイバカプラ201において、光源部100 から出射された低コヒーレンス光を、被測定部10に照射する信号光と、ピエゾ素子203 で周波数シフトされる参照光とに分割し、また、被測定部10の所定の深部で反射された信号光と参照光とを合波する。この合波された干渉光の光強度をバランス差分検出部500 で検出し、信号処理部600 で画像処理を行い、画像表示部700 に断層画像として表示する。光源部100 は、励気用の半導体レーザ102 および色素がドープされたファイバ光源101 から構成されるため、小型で安価なものとなる。またファイバ光源101 から放出されるコヒーレンス長の短い自然放出光を低コヒーレンス光として用いるため、低コヒーレンス干渉における分解能も高くなる。
請求項（抜粋）：
低コヒーレンス光を信号光と参照光に分割し、前記信号光を被測定部に照射し、前記参照光の周波数を前記信号光と僅かな周波数差を有する周波数にシフトし、前記信号光の前記被測定部の所定の深部からの反射光と、前記参照光とを干渉させ、干渉光強度を測定し、前記被測定部の光断層画像を取得する光断層画像化装置において、前記低コヒーレンス光が、発光体がドープされた光ファイバに励起エネルギーを印加することにより射出される増幅された自然放出光であることを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (3件)：
G01N 21/17 625 ,  A61B 3/10 ,  A61B 10/00
FI (3件)：
G01N 21/17 625 ,  A61B 10/00 E ,  A61B 3/10 R
Fターム (21件)：
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE09 ,  2G059FF01 ,  2G059FF06 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG09 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059NN05
引用特許：
審査官引用 (2件)

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