荷電ビーム転写用マスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-120245
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304919
出願日： 1996年05月15日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】マスクの機械的強度の向上。【解決手段】マスク基板14上に設けられた支柱13で小領域20のそれぞれを6角形状に囲む壁を形成し、その壁がハニカム構造を形成するようにした。その結果、マスク11の機械的強度を向上させることができ、パターン歪の発生を低減することができる。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された複数の小領域と、その各小領域の周囲を囲む支柱とを薄膜上に設けて成る荷電ビーム転写用マスクにおいて、前記支柱で前記小領域のそれぞれを6角形状に囲む壁を形成し、その壁がハニカム構造を形成するようにしたことを特徴とする荷電ビーム転写用マスク。

引用特許：

審査官引用 (3件)

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