シリカガラスの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐藤隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-103450
公開番号（公開出願番号）：特開2002-293548
出願日： 2001年04月02日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】高濃度かつ均一にB2O3を含有したシリカガラスなどの製造方法において、透明で亀裂のないシリカガラスを安価に製造することが可能なシリカガラスの製造方法を提供する。【解決手段】ホウ素含有水溶液とシリカ微粒子などを含む原材料を混合して、シリカ微粒子を分散したホウ素成分含有水溶液である混合溶液(ゾル溶液)を調製し(ST1)、この混合溶液に酸成分を添加するなどを行ってゲル化する(ST2)。次に、得られたゲル化物を凍結乾燥する(ST3)。次に、乾燥されたゲル化物を焼結して(ST4)、B2O3を含有するシリカガラスなどのシリカガラスを製造する。

請求項（抜粋）：

原材料を混合して混合溶液を調製する工程と、上記混合溶液をゲル化する工程と、上記ゲル化物を凍結乾燥する工程と、乾燥されたゲル化物を焼結する工程とを有するシリカガラスの製造方法。

IPC (4件)：

C03B 8/02 , C03B 20/00 , C03C 3/089 , G02B 6/00 356

FI (6件)：

C03B 8/02 J , C03B 8/02 D , C03B 8/02 G , C03B 20/00 C , C03C 3/089 , G02B 6/00 356 A

Fターム (62件)：

4G014AH02 , 4G014AH04 , 4G014AH06 , 4G062AA06 , 4G062AA07 , 4G062CC05 , 4G062DA07 , 4G062DB01 , 4G062DC04 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FA10 , 4G062FB01 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062LA07 , 4G062NN01 , 4G062NN33 , 4G062NN34

前のページに戻る