特許
J-GLOBAL ID:200903002109140293
超純水製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
若林 忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-150263
公開番号(公開出願番号):特開平7-047364
出願日: 1993年06月22日
公開日(公表日): 1995年02月21日
要約:
【要約】【目的】 廃水の発生を減少させ、しかも生じた廃水は、そのまま環境中へ放流できる超純水製造装置を提供する。【構成】 超純水製造装置を、少なくとも膜除濁装置8を有する前処理装置4と、逆浸透膜装置14と電気式脱イオン水製造装置18とを有する一次純水製造装置12と、二次純水製造装置22とで構成する。
請求項(抜粋):
少なくとも膜除濁装置を有し供給される原水を処理して前処理水とする前処理装置と、少なくとも逆浸透膜装置と電気式脱イオン水製造装置とを有し前記前処理水を処理して一次純水とする一次純水製造装置と、前記一次純水を更に精製処理して超純水とする二次純水製造装置とからなることを特徴とする超純水製造装置。
IPC (5件):
C02F 1/44
, B01D 61/04
, C02F 1/42
, C02F 1/469
, C02F 9/00
引用特許: