特許
J-GLOBAL ID:200903002162529801
透光性導電膜の製造方法及び透光性導電膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
土橋 皓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-121907
公開番号(公開出願番号):特開2000-311527
出願日: 1999年04月28日
公開日(公表日): 2000年11月07日
要約:
【要約】【課題】 所望の微細パターン形状の金属層を有して高い透光性と導電性を兼ね備えた透光性導電膜を、パターン加工のための製版を必要とせず、容易かつ安価に製造することができる透光性導電膜の製造方法、及びこの製造方法により形成された透光性導電膜を提供することを課題とする。【解決手段】 表面にインク受容層を有する基板上に、無電解メッキ触媒を含有するインクをインクジェット記録方式により噴射して所望形状のパターンを形成し、その後無電解メッキ法により前記パターン上に導電性金属を形成するように構成する。
請求項(抜粋):
表面にインク受容層を有する基板上に、無電解メッキ触媒を含有するインクをインクジェット記録方式により噴射して所望形状のパターンを形成し、その後無電解メッキ法により前記パターン上に導電性金属を形成することを特徴とする透光性導電膜の製造方法。
IPC (3件):
H01B 13/00 503
, B32B 3/00
, C23C 2/00
FI (3件):
H01B 13/00 503 B
, B32B 3/00
, C23C 2/00
引用特許:
出願人引用 (2件)
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特開平4-048507
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透明導電回路形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-140476
出願人:キヤノン株式会社
審査官引用 (2件)
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特開平4-048507
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透明導電回路形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-140476
出願人:キヤノン株式会社
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