特許
J-GLOBAL ID：200903002193444367
熱伝導率を調整することによって結晶質材料のブロックを製造するための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
吉武 賢次
, 橘谷 英俊
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-180025
公開番号（公開出願番号）：特開2009-018987
出願日： 2008年07月10日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：
【課題】シリコン、ゲルマニウム等の結晶質材料のブロックを製造するための、伝導による熱除去を精密に調整可能なブリッジマン型の装置を提供する。【解決手段】溶融材料19の槽から結晶質材料20のブロックを製造するための装置は、底部3を有する坩堝2と、坩堝2の下方に配置された熱除去手段9とを備える。また、装置は、坩堝の底部3と熱除去手段9との間に取り付けられた熱伝導率を調整するための手段7を備える。熱伝導率を調整するための手段7は、低放射率の熱伝導性材料から製造されかつ坩堝の底部3に平行な複数のプレート10と、プレート10がお互いに近づきかつ遠ざかるようにプレート10を移動させるための手段8とを備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
底部(3)を有する坩堝(2)と、前記坩堝(2)の下方に配置された熱除去手段(9)と、前記坩堝の前記底部(3)と前記熱除去手段(9)との間に取り付けられた熱伝導率を調整するための手段(7)とを備える、溶融材料(19)の槽から結晶質材料(20)のブロックを製造するための装置において、
熱伝導率を調整するための前記手段(7)が、
低放射率の熱伝導性材料から製造され、かつ、前記坩堝の前記底部(3)に平行な複数のプレート(10)と、
前記プレート(10)がお互いに近づきかつ遠ざかるように、かつ前記坩堝(2)の前記底部に近づきかつ遠ざかるように前記プレート(10)を移動させるための手段と、
を備え、
前記プレート(10)が、0.5以下の放射率を有することを特徴とする装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
4G077AA02
, 4G077BA04
, 4G077CD02
, 4G077EA06
, 4G077EG18
, 4G077EG25
, 4G077HA01
, 4G077MB04
, 4G077MB26
出願人引用 (5件)
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欧州特許明細書第141,999号公報
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結晶シリコン製造装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-224691
出願人：三菱マテリアル株式会社
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英国特許出願公開明細書第2041236号公報
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審査官引用 (1件)
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