特許
J-GLOBAL ID：200903002218057444
回折性の光学的ビーム積分によるレーザー伝送システムおよび方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-529773
公開番号（公開出願番号）：特表2002-502062
出願日： 1999年01月20日
公開日（公表日）： 2002年01月22日
要約：
【要約】レーザー伝達システムおよび方法は、回折性の光学的ビーム積分器を組み入れる。エキシマレーザービーム(10)の空間的強度分布を空間的積分ビームを発生させるために改変するための回折性の光学的開口は、回折性の光学的ディフューザー(12)および収束レンズ(22)を含む。回折性の光学的ディフューザー(12)は、エキシマレーザービームの強度プロファイルを空間的積分平面でほぼ円形の実質的に均一な空間的強度分布に変更するために、透明媒体にエッチングされた回折格子パターンを含む。空間的積分平面の周りに位置する種々の開口は、選択的に空間的積分分布を結像レンズに通過させる。結像レンズは、切除される組織の表面の周りで通過されるビームの像を形成する。コンピューター制御での走査要素は、表面周りの結像されたビームを走査する。
請求項（抜粋）：
組織切除のためのエキシマレーザーシステムであって: 経路に沿ってパルスレーザーエネルギーの不均一なビームを発生させるためのArFエキシマレーザーであって、該不均一なビームが不均一な空間的強度分布を有する、ArFエキシマレーザー; 回折性の光学的ディフューザーであって、該レーザーから間隔を空けて配置されており、そして該ビームの該経路に沿って配置された透明な回折パターンを有し、これによって、該不均一なビームを、実質的に均一な空間的強度分布を有する空間的に積分したビームに変換する、回折性の光学的ディフューザー;および 収束レンズであって、該回折性の光学的ディフューザーの周りに位置しており、これによって、該空間的積分ビームを空間的積分平面上に集束する、収束レンズ、を備える、エキシマレーザーシステム。
IPC (6件)：
G02B 27/09
, G02B 5/02
, G02B 5/18
, G02B 13/00
, H01S 3/00
, H01S 3/225
G02B 5/02 B
, G02B 5/18
, G02B 13/00
, H01S 3/00 A
, G02B 27/00 E
, H01S 3/223 E
2H042AA05
, 2H042AA17
, 2H042AA21
, 2H042BA01
, 2H049AA02
, 2H049AA12
, 2H087KA26
, 2H087PA01
, 2H087PA17
, 2H087PB01
, 2H087QA02
, 2H087QA05
, 2H087QA13
, 2H087QA33
, 5F071AA06
, 5F071JJ10
, 5F072AA06
, 5F072JJ20
, 5F072KK07
, 5F072KK15
, 5F072RR05
, 5F072YY01
