加熱処理装置及び加熱処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：栗原浩之 , 村中克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-097673
公開番号（公開出願番号）：特開2007-271167
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】表面が金属又は合金からなる基体を加熱処理して酸化物層を形成する加熱処理を効率よく且つ生産性良好に行う加熱処理装置及び加熱処理方法を提供する。【解決手段】表面が金属又は合金からなる基体3を加熱処理する加熱処理装置であって、少なくとも燃料ガスが導入されて先端から燃焼ガスを噴出するガスバーナ20と、このガスバーナに燃料ガスを導入する燃料ガス導入手段21、22と、前記ガスバーナから放出された燃焼炎を導入する導入口を有する燃焼室1と、この燃焼室1に連通部13を介して連通して設けられると共に前記基体3を載置して加熱処理する処理室2と、前記ガスバーナ20から噴出された燃焼ガスを前記連通部13から導入して当該処理室2内に燃焼ガスの均一な雰囲気を形成する処理雰囲気形成手段17とを具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

表面が金属又は合金からなる基体を加熱処理する加熱処理装置であって、少なくとも燃料ガスが導入されて先端から燃焼ガスを噴出するガスバーナと、このガスバーナに燃料ガスを導入する燃料ガス導入手段と、前記ガスバーナから放出された燃焼炎を導入する導入口を有する燃焼室と、この燃焼室に連通部を介して連通して設けられると共に前記基体を載置して加熱処理する処理室と、前記ガスバーナから噴出された燃焼ガスを前記連通部から導入して当該処理室内に燃焼ガスの均一な雰囲気を形成する処理雰囲気形成手段とを具備することを特徴とする加熱処理装置。

IPC (7件)：

F27D 7/02 , F27B 9/24 , F27B 9/36 , F27B 9/04 , F27D 7/06 , F27B 17/00 , F27D 7/04

FI (7件)：

F27D7/02 A , F27B9/24 E , F27B9/36 , F27B9/04 , F27D7/06 C , F27B17/00 B , F27D7/04

Fターム (20件)：

4K050AA01 , 4K050BA01 , 4K050CC09 , 4K050CC10 , 4K050CD02 , 4K050CD06 , 4K050CD25 , 4K050CG09 , 4K050EA08 , 4K063AA05 , 4K063AA15 , 4K063BA02 , 4K063BA03 , 4K063CA03 , 4K063CA06 , 4K063DA08 , 4K063DA13 , 4K063DA15 , 4K063DA28 , 4K063DA33

引用特許：

出願人引用 (1件)

炭素ドープ酸化チタン層を有する多機能材
公報種別：再公表公報出願番号：JP2004018310 出願人：財団法人電力中央研究所

審査官引用 (5件)

熱処理炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-311676 出願人：株式会社サンセルト
特開平4-106315
気流炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-343421 出願人：日本ファーネス工業株式会社

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