特許

J-GLOBAL ID：200903002242330690

積層指示装置、多層基板製造システム、及び多層基板製造方法

発明者： 菅沼 敦 ,  下山 裕司 ,  岡安 孝 ,  宮西 正孝 ,  仲田 記孝
出願人/特許権者： 富士フイルムホールディングス株式会社 ,  日本シイエムケイ株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-230413
公開番号（公開出願番号）：特開2007-048868
出願日： 2005年08月09日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【課題】 複数の単位基板が配設された多層基板の製造において歩留まりが悪化するのを防ぐことができる積層指示装置、多層基板製造システム、及び多層基板製造方法を提供する。【解決手段】 内層のワークボードの不良ピースの存在を画像認識装置60によって検査し、不良ピースが存在する場合には、そのワークボードのワークID及び不良ピースの位置の情報を含む不良情報200が生成され、露光装置4に出力される。露光装置4は、外層用のワークボードの露光時に、対応する内層の基板の不良ピースの存在を不良情報200に基づいて特定し、不良ピースが存在する場合には、その位置に不良ピースであることを示す識別マークが露光されるように露光用の描画データを変更して露光する。不良ピースの位置が一致するような基板の組み合わせを不良情報200に基づいて求め、求めた組み合わせのワークIDを積層指示情報300として生成し、出力部10へ出力する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

形成パターンが形成された単位基板が複数配設されて成る構成基板を複数個積層する際に、積層する前記構成基板の組み合わせを指示する積層指示装置において、 前記構成基板に配設された単位基板のうち、前記形成パターンに不良が存在する不良の単位基板の位置に関する情報を含む不良情報を入力する入力手段と、 入力した前記不良情報に基づいて、前記構成基板を積層した時に前記不良の単位基板の位置が一致するような前記構成基板の組み合わせに関する組み合わせ情報を生成する生成手段と、 を備えたことを特徴とする積層指示装置。

IPC (2件)：

H05K 3/00 ,  H05K 3/46

FI (3件)：

H05K3/00 P ,  H05K3/00 X ,  H05K3/46 Z

Fターム (9件)：

5E346AA22 ,  5E346CC32 ,  5E346DD32 ,  5E346DD44 ,  5E346EE01 ,  5E346GG12 ,  5E346GG18 ,  5E346GG22 ,  5E346HH33

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-131574   出願人：株式会社日立製作所
• 多層プリント配線基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-187016   出願人：クローバー電子工業株式会社