特許

J-GLOBAL ID：200903002245545809

ペリクル

発明者： 永村 美一
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-215986
公開番号（公開出願番号）：特開平8-082918
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：

【要約】【目的】 たとえ異物が発生してもフォトマスクの表面に落下、付着するのを防止することが可能で、且つ安価なペリクルを提供する。【構成】 ペリクル膜11の周縁部を固定するフレーム12の上面に中央部が突出する突状面12aを形成し、この突状面12aの外側半面に接着剤13を塗布するとともに、接着剤13でペリクル膜11の周縁部を接着固定する。

請求項（抜粋）：

半導体装置製造のリソグラフィ工程における露光時のゴミよけカバーとして用いられるペリクルにおいて、ペリクル膜の周縁部を固定するフレームの上面に中央部が突出する突状面を形成し、上記突状面の外側半面に接着剤を塗布するとともに、上記接着剤で上記ペリクル膜の周縁部を接着固定したことを特徴とするペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭64-055565
  
• ペリクル枠
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-173687   出願人：東ソー株式会社
• 特開昭63-298245