特許

J-GLOBAL ID：200903002279114580

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： ペトルス リュトゲルス バートライ ,  ウィルヘルムス ジョセフス ボックス ,  ヤン ヤープ クイト ,  カルロ コーネリス マリア ルイユテン ,  ベルナルデュス アントニウス ヨハネス ルッティクイス ,  ミカエル テン ボマー ,  フェルディ ミクケルブリンク
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-328305
公開番号（公開出願番号）：特開2005-150732
出願日： 2004年11月12日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】性能の問題を回避しながら、製造コストを低減する基準フレーム材料を提供する。【解決手段】基板Wを保持するための基板テーブルWT、基板Wの目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムPL、および基板Wが測定される基準面を供給するための独立基準フレームMFを備えるリソグラフィ装置であって、基準フレームMFは熱膨張係数の大きい材料を含有するとともに、所定の材料の複合、サンドイッチまたは積層構造とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、 放射線の投影ビームを供給するための照明システムと、 投影ビームにあるパターンの断面の形を与える働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、 基板を保持するための基板テーブルと、 基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影するための投影システムと、 前記基板を測定するための基準面を供給するための独立基準フレームとを備え、 前記基準フレームが熱膨張係数の大きい材料を含有することを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515Z ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516E

Fターム (9件)：

5F046BA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CC01 ,  5F046CC16 ,  5F046DA07 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02 ,  5F046DB05 ,  5F046DC14

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平3-198320
  
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-117408   出願人：キヤノン株式会社
• 平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-234593   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

審査官引用 (3件)

• 平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-234593   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-117408   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平3-198320