特許
J-GLOBAL ID：200903080656008007

投影露光装置

発明者：
高林 幸夫

高林 幸夫 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117408
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303112
出願日： 1997年04月22日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 投影露光装置における支持構造体の軽量化、高剛性化を図る。【解決手段】 転写される原版を保持する原版台と、投影光学系と、該投影光学系を経て露光される基板を保持する基板ステージとを有する投影露光装置において、該原版台、該投影光学系および該基板ステージを支持する支持体の一部分あるいは全部をセラミックス材料またはそれと金属部材とが一体焼結された複合体で構成する。
請求項（抜粋）：
転写される原版を保持する原版台と、投影光学系と、該投影光学系を経て露光される基板を保持する基板ステージとを有し、該原版台、該投影光学系および該基板ステージを支持する支持体の一部分あるいは全部がセラミックス材料と金属部材とが一体焼結された複合体からなることを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  C04B 37/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (5件)：
H01L 21/30 514 Z ,  C04B 37/02 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/30 503 Z
引用特許：
審査官引用 (5件)
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