プラズマリアクタ

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐藤香
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-222537
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058298
出願日： 1998年08月06日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】プラズマリアクタの可動壁体等についての必要精度を緩和する。【解決手段】真空チャンバ2内に設けられた基板乗載可能な基板支持体12と、その基板乗載面との間にプラズマ処理空間13を形成するプラズマ空間形成機構11,12と、プラズマ処理空間13の開口部分を囲う可動壁体50と、開口部分を囲う位置と開口部分を解放する位置との両位置に亘って可動壁体50を進退させる壁体駆動機構42〜46とを備えたプラズマリアクタであって、可動壁体50には外側面中間部から張り出して鍔部54が形成されるとともに、これと対向する対向部55が真空チャンバ2内側面から内向きに突きだして設けられる。可動壁体50の全体を厚くしなくても鍔部54を利用して通過流体を絞る能力を強化できるとともに、流体の通過途中に中継室57や圧力バッファ空間を付加したのと同様の効果が得られて、圧力制御性および均一性も向上する。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内に設けられた基板乗載可能な基板支持体と、前記基板支持体の基板乗載面との間にプラズマ処理空間を形成するプラズマ空間形成機構と、前記プラズマ処理空間の開口部分を囲う可動壁体と、前記可動壁体が前記開口部分を囲う位置と前記可動壁体が前記開口部分を解放する位置との両位置に亘って前記可動壁体を進退させる壁体駆動機構とを備えたプラズマリアクタであって、前記可動壁体は鍔部が設けられたものであることを特徴とするプラズマリアクタ。

IPC (5件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (5件)：

H05H 1/46 M , C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H01L 21/302 C

Fターム (24件)：

4K030EA11 , 4K030FA01 , 4K030FA03 , 4K030KA12 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 5F004AA01 , 5F004BA04 , 5F004BB13 , 5F004BB18 , 5F004BB23 , 5F004BD04 , 5F004CA02 , 5F004DB01 , 5F004DB03 , 5F045AA08 , 5F045BB01 , 5F045BB08 , 5F045DP03 , 5F045DQ12 , 5F045EB02 , 5F045EG01 , 5F045EH13 , 5F045GB06

引用特許：

出願人引用 (4件)

スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-216275 出願人：山形日本電気株式会社
特開平4-198476
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-144562 出願人：東京エレクトロン株式会社

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審査官引用 (4件)

スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-216275 出願人：山形日本電気株式会社
特開平4-198476
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-144562 出願人：東京エレクトロン株式会社

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