特許
J-GLOBAL ID：200903002296872294
走査型露光装置及び走査露光方法並びにデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-051563
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233433
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 基板上の次の区画領域の露光を開始するまでに確実に基板の区画領域間の非走査方向の移動を終了させ、しかもスループットの向上を図る。【解決手段】 基板W上に非走査方向に並んだ第1領域(例えばC)と第2領域(例えばD)とに連続してパターンを転写するに際し、基板W上の第1領域に対するパターン転写の終了後に、基板Wの走査方向(Y方向)の減速及び非走査方向(X方向)の移動が開始され、基板Wの位置がX方向の移動終了位置に対しX方向の距離が所定の閾値距離内となったときに第2領域のパターン転写のための基板WのY方向の加速を開始する。このため、基板WのY方向の加速が開始された時点では、基板WのX方向の領域間の移動距離の大小にかかわらず必ず基板WのX方向の移動が終了しており、しかも基板WのX方向の領域間の移動中にY方向の加速が開始される。
請求項（抜粋）：
マスクと基板のそれぞれを所定の走査方向に同期移動して前記マスクに形成されたパターンを前記基板上の複数の区画領域に順次転写する走査型露光装置であって、前記基板を保持して前記走査方向及びこれに直交する非走査方向に2次元移動する基板ステージと;前記基板ステージを駆動する駆動装置とを備え、前記基板上に非走査方向に並んだ第1区画領域と第2区画領域とに連続して前記パターンを転写するに際し、前記駆動装置が、前記基板上の第1区画領域に対するパターン転写の終了後に、前記基板ステージの走査方向の減速及び非走査方向の移動を開始し、前記基板ステージの位置が前記非走査方向の移動終了位置に対し非走査方向の距離が所定の閾値距離内となったときに前記第2区画領域のパターン転写のための前記基板ステージの前記走査方向の加速を開始することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/22
, H01L 21/68
H01L 21/30 518
, G03F 7/22 H
, H01L 21/68 K
, H01L 21/30 516 B
