特許
J-GLOBAL ID：200903002308567565

マスク、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法並びに電子機器

発明者：
池原 忠好

池原 忠好 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110131
公開番号（公開出願番号）：特開2003-308966
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：
【要約】【課題】 単位マスクの位置合わせを容易にすることにある。【解決手段】 マスクは、マスクパターンをそれぞれが有する複数の第1の基板10と、複数の第1の基板10を支持する第2の基板20と、を有する。第2の基板20は、複数の第1の基板10が載せられる支持部22と、複数のストッパ24と、を有する。それぞれのストッパ24は、いずれかの第1の基板10の一方向への移動を規制しその反対方向への移動を許容する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンをそれぞれが有する複数の第1の基板と、前記複数の第1の基板を支持する第2の基板と、を有し、前記第2の基板は、前記複数の第1の基板が載せられる支持部と、複数のストッパと、を有し、それぞれの前記ストッパは、いずれかの前記第1の基板の一方向への移動を規制しその反対方向への移動を許容するマスク。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  H05B 33/14
FI (3件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  H05B 33/14 A
Fターム (7件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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