全反射蛍光X線分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：桑井清一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-041870
公開番号（公開出願番号）：特開平7-229862
出願日： 1994年02月16日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：

【要約】【目的】シリコン基板の全面においてバックグランドの少ない条件での測定を行うことのできる全反射蛍光X線分析装置を提供する。【構成】下段試料台17にψ回転機構11、θ回転機構12およびZ軸移動機構16を設け、上段試料台18にX軸移動機構14、Y軸移動機構15を設ける。シリコン基板13の任意の測定位置にθ軸が位置するよう、X軸移動機構14、Y軸移動機構15等を駆動する。そして、θ軸を中心として下段試料台17を回転することにより、バックグランドが所定値以下となるX線入射方位を求める。したがって、シリコン基板の任意の位置においてバックグランドの少ない条件での測定が可能となる。

請求項（抜粋）：

被測定基板が載置された試料台と、仮想平面上において試料台を移動させるXY軸移動機構と、上記仮想平面上のψ軸を中心として試料台を回動させるψ軸回転機構と、上記仮想平面に対して垂直のθ軸を中心に試料台を回転させるθ軸回転機構と、被測定基板表面のうち、入射X線を照射された測定位置から発せられた特性X線および散乱回折X線を検出する検出器とを備えた全反射蛍光X線分析装置において、被測定基板表面の任意の位置に上記測定位置を移動させるとともにθ軸を当該測定位置に交差させるよう、XY軸移動機構およびψ軸回転機構を制御する制御手段を備えたことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

蛍光X線の分析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-318527 出願人：理学電機工業株式会社
X線複合分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-186714 出願人：株式会社日立製作所

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