特許
J-GLOBAL ID:200903002335282270
苛性カリ中のニッケルの除去方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
幸田 全弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-372787
公開番号(公開出願番号):特開2000-203828
出願日: 1998年12月28日
公開日(公表日): 2000年07月25日
要約:
【要約】【課題】 苛性カリの濃縮などにおいて、ニッケルを材質とした濃縮装置から溶出するニッケルを簡単な手段で低レベルまで除去して高純度の苛性カリを得る方法を提供する。【解決手段】 ヤシ殻活性炭などの活性炭をプレコートした濾過装置によりニッケルを含む苛性カリ水溶液を濾過してニッケルの含有量の少ない高純度の苛性カリを得る。
請求項(抜粋):
活性炭をプレコートした濾過装置によりニッケルを含む苛性カリ水溶液を濾過することを特徴とする苛性カリ中のニッケルの除去方法。
IPC (5件):
C01D 1/28
, B01D 15/00
, B01D 37/02
, B01J 20/20
, C02F 1/62
FI (5件):
C01D 1/28 Z
, B01D 15/00 P
, B01D 37/02 G
, B01J 20/20 B
, C02F 1/62 Z
Fターム (12件):
4D017AA01
, 4D017BA12
, 4D017CA03
, 4D038AA08
, 4D038AB67
, 4D038BA02
, 4D038BB06
, 4D066CA05
, 4G066AA05B
, 4G066CA46
, 4G066DA08
, 4G066EA11
引用特許:
審査官引用 (12件)
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特開昭52-052898
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特開平4-055312
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特開昭48-000098
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特公昭50-011359
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アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-039921
出願人:信越半導体株式会社
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特開平1-160818
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特開昭62-138323
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特開昭62-108834
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特開昭52-149297
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特開昭50-101292
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特開昭49-084996
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特開昭63-008215
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