特許
J-GLOBAL ID：200903098135514972
アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-039921
公開番号（公開出願番号）：特開平10-310883
出願日： 1998年02月23日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：
【要約】【課題】 アルカリ溶液中の金属不純物イオンを低コストで極めて効率良く非イオン化することを可能としたアルカリ溶液の純化方法ならびにこの純化されたアルカリ溶液を用いて半導体ウェーハ品質を劣化させることなくエッチングを行うことを可能として半導体ウェーハのエッチング方法を提供する。【解決手段】 アルカリ溶液中に存在している金属イオンの可逆電位に比べ、卑な酸化電位をもつ還元剤を溶解することにより、アルカリ溶液中に存在する金属イオンを非イオン化する。
請求項（抜粋）：
アルカリ溶液中に存在している金属イオンの可逆電位に比べ、卑な酸化電位をもつ還元剤を溶解することにより、アルカリ溶液中に存在する金属イオンを非イオン化することを特徴とするアルカリ溶液の純化方法。
IPC (4件)：
C23F 1/32
, C02F 1/70
, C23F 1/46
, H01L 21/306
C23F 1/32
, C02F 1/70 A
, C23F 1/46
, H01L 21/306 B
