特許
J-GLOBAL ID:200903002363491756

屈折率差の向上した高分子光導波路並びにその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 松本 研一 ,  小倉 博 ,  黒川 俊久
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-521165
公開番号(公開出願番号):特表2007-500365
出願日: 2004年07月16日
公開日(公表日): 2007年01月11日
要約:
コア領域(12)、クラッド領域(14)及びそれらの間に位置する屈折率差領域(16)を含む導波路を形成する方法は、重合性複合材を基板(18)上に付着させて層(22)を形成し、上記層をパターニングして該層の露出域(26)と非露出域(28)を画成し、上記層の露出域を照射し、未硬化モノマーを揮発させて導波路を形成することを含んでおり、重合性複合材は、ポリマーバインダーと層の露出域に拡散して屈折率差領域を形成するのに充分な量の未硬化モノマーとを含む。得られた導波路は、コア領域及びクラッド領域よりも屈折率の低い屈折率差領域を含む。【選択図】 図5及び6
請求項(抜粋):
コア領域(12)とクラッド領域(14)とそれらの間に位置する屈折率差領域(16)とを備える導波路を形成する方法であって、 基板(18)上に重合性複合材を付着させて層(22)を形成し、 上記層をパターニングして該層の露出域(26)と非露出域(28)とを画成し、 上記層の露出域を照射し、 未硬化モノマーを揮発させて導波路を形成する ことを含み、上記重合性複合材が、ポリマーバインダーと上記層の露出域に拡散して屈折率差領域を形成するのに充分な量の未硬化モノマーとを含む方法。
IPC (3件):
G02B 6/13 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/122
FI (3件):
G02B6/12 M ,  G02B6/12 N ,  G02B6/12 A
Fターム (21件):
2H147BA05 ,  2H147BA09 ,  2H147BB09 ,  2H147BD01 ,  2H147EA09C ,  2H147EA12C ,  2H147EA13C ,  2H147EA14C ,  2H147EA16A ,  2H147EA16C ,  2H147EA17A ,  2H147EA19A ,  2H147FA17 ,  2H147FB02 ,  2H147FB04 ,  2H147FB09 ,  2H147FD20 ,  2H147FE02 ,  2H147FF05 ,  2H147GA10 ,  2H147GA25
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 米国特許第5113470号明細書
  • 国際公開第91/01505号パンフレット
  • 高分子光導波路
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-127456   出願人:日本電信電話株式会社
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審査官引用 (2件)
  • 高分子光導波路
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-127456   出願人:日本電信電話株式会社
  • 特開平3-154006

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