特許
J-GLOBAL ID：200903002369726402
排ガス通路のクリーニング方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
澤 喜代治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-389119
公開番号（公開出願番号）：特開2002-186925
出願日： 2000年12月21日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、排ガス通路のクリーニング方法及びその装置に係り、排ガス通路を脱着せずにクリーニングを実施できる排ガス通路のクリーニング方法とその方法を実施するための排ガス通路クリーニング装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、例えば半導体製造装置1の排ガスを流通させる排ガス通路2の屈曲部3に、当該排ガス通路2の内面に付着する付着物を除去する半導体排ガス通路クリーニング装置4を予め付設しておき、付着物が所定量以上に成長する前の任意の段階で半導体排ガス通路クリーニング装置4を作動させて付着物を該排ガス通路2内に舞い上がらせ、これを排ガス通路2内を流れる排ガスに乗せて下流に排出する。
請求項（抜粋）：
粉塵発生源からの排ガスを流通させる排ガス通路の要所に、当該排ガス通路の内面に付着する付着物を除去する排ガス通路クリーニング装置を予め付設して、前記内面への付着物の付着量が所定量以上に成長する前の任意の段階で前記排ガス通路クリーニング装置を作動させて付着物を前記内面より排ガス通路内に舞い上がらせ、この排ガス通路内を流れる気流に乗せて下流に排出することを特徴とする排ガス通路のクリーニング方法。
IPC (6件)：
B08B 9/04
, B08B 1/04
, B08B 5/02
, B08B 7/02
, F23J 3/00
, F23J 3/02
B08B 1/04
, B08B 5/02 A
, B08B 7/02
, F23J 3/00 Z
, F23J 3/02 Z
, B08B 9/02 A
3B116AA13
, 3B116BA12
, 3B116CD11
, 3K061QA07
, 3K061QA11
, 3K061RA01
, 3K061RA02
, 3K061RA03
, 3K061RA08
, 3K061RA10
