特許
J-GLOBAL ID：200903002430321836
カラーフィルタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-170413
公開番号（公開出願番号）：特開平11-014815
出願日： 1997年06月26日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】連続したフィルム状基材の上に高スループットでストライプパターンを形成する方法において、着色ストライプパターンとブラックマトリクスとの位置ずれのないカラーフィルタのパターンを形成するための方法を提供する。【解決手段】連続した基材上に感光性着色レジスト膜を形成し、その上からストライプ状の遮光パターンを有するフォトマスクを介して、基材を連続的に送りつつ露光することを必要色回数繰り返し、所望の着色ストライプパターンを形成した後、さらに感光性黒色レジスト膜を塗布形成し、膜面と反対の面から、ブラックマトリクスの周辺枠部パターン露光用のマスクを介して露光することにより着色ストライプパターンの間隙にブラックマトリクス層を形成する。
請求項（抜粋）：
連続した基材上に感光性着色レジスト膜を形成し、その上からストライプ状の遮光パターンを有するフォトマスクを介して、基材を連続的に送りつつ露光することを必要色回数繰り返し、所望の着色ストライプパターンを形成した後、さらに感光性黒色レジスト膜を塗布形成し、膜面と反対の面から、ブラックマトリクスの周辺枠部パターン露光用のマスクを介して露光することにより着色ストライプパターンの間隙にブラックマトリクス層を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
引用特許：
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