特許

J-GLOBAL ID：200903002578238539

光学素子、光学ユニット、光学装置、結像光学系、投射光学系及び光学素子の製造方法

発明者： 高浦 淳 ,  藤田 和弘 ,  安部 一成
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-170862
公開番号（公開出願番号）：特開2009-008931
出願日： 2007年06月28日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：

【課題】 低コストで必要な面精度が確保された光学面を持つ光学素子の提供。【解決手段】 光学面上に存在する凹凸の周期の逆数を空間周波数とし、光学面上に存在する凹凸を2つ以上の空間周波数成分に分解してそれぞれの空間周波数成分の振幅を面精度としたときに、任意の異なる空間周波数成分の空間周波数f1とf2がf1>f2であるとき、空間周波数f1である空間周波数成分の面精度σ1と空間周波数f2である空間周波数成分の面精度σ2がσ1<σ2である光学面を有することを特徴とする光学素子。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

光学面上に存在する凹凸の周期の逆数を空間周波数とし、光学面上に存在する凹凸を2つ以上の空間周波数成分に分解してそれぞれの空間周波数成分の振幅を面精度としたときに、 任意の異なる空間周波数成分の空間周波数f1とf2がf1>f2であるとき、空間周波数f1である空間周波数成分の面精度σ1と空間周波数f2である空間周波数成分の面精度σ2がσ1<σ2である光学面を有することを特徴とする光学素子。

IPC (3件)：

G02B 5/10 ,  G02B 3/00 ,  G03B 21/14

FI (4件)：

G02B5/10 A ,  G02B5/10 C ,  G02B3/00 Z ,  G03B21/14 Z

Fターム (9件)：

2H042DC08 ,  2H042DC11 ,  2H042DC12 ,  2H042DD05 ,  2H042DE04 ,  2K103AB10 ,  2K103BC05 ,  2K103BC23 ,  2K103CA26

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 変倍光学系
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-062471   出願人：キヤノン株式会社
• 投射光学系、拡大投射光学系、拡大投射装置及び画像投射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-409304   出願人：株式会社リコー
• 光反射鏡、その製造方法およびプロジェクター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-121929   出願人：京セラオプテック株式会社, 京セラケミカル株式会社