特許
J-GLOBAL ID:200903002579770471
光学素子保持装置、露光装置およびデバイス製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-291295
公開番号(公開出願番号):特開2007-103657
出願日: 2005年10月04日
公開日(公表日): 2007年04月19日
要約:
【課題】 光学素子を変形させかつ位置決めして保持するための新規かつ有用な技術を提供すること。【解決手段】 光学素子保持装置を、光学素子を変形させる少なくとも1つの力発生アクチュエータと、前記光学素子の剛体運動モードにおける位置を計測する計測手段と、前記計測手段の計測結果に基づき前記光学素子を位置決めする変位発生アクチュエータとを有するものとする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光学素子を変形させる少なくとも1つの力発生アクチュエータと、
前記光学素子の剛体運動モードにおける位置を計測する計測手段と、
前記計測手段の計測結果に基づき前記光学素子を位置決めする変位発生アクチュエータと
を有することを特徴とする光学素子保持装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 7/02
FI (4件):
H01L21/30 517
, H01L21/30 531A
, G03F7/20 501
, G02B7/02 C
Fターム (9件):
2H044AC01
, 2H097AA02
, 2H097BB03
, 2H097LA10
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046DA12
, 5F046GA03
, 5F046GB01
引用特許:
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