特許
J-GLOBAL ID:200903002601378963

浮上すきま測定方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 菅 隆彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-001522
公開番号(公開出願番号):特開平9-189541
出願日: 1996年01月09日
公開日(公表日): 1997年07月22日
要約:
【要約】【課題】高密度記録用の浮動ヘッドを所定のすきま値で浮上するか否かの高精度品質検査を容易に実現できる浮上すきま測定方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明装置の特徴は、回転する円板2と円板2の表面を掃滑浮上するスライダ4との間に向けて、スライダ4の端部の面積よりも小さく絞ったX線束βを照射するX線源5と、磁気ヘッド3及びスライダ4を挟んでX線源5と反対側に配置され、円板2とスライダ4との間を通過したX線を検出するX線検出器6と、X線検出器6によるX線検出量から浮上すきま値を求める解析装置7と備えたことにある。
請求項(抜粋):
回転する円板と当該円板の表面を掃滑浮上する浮動ヘッドとの間の浮上すきま値を測定するに当り、前記円板を回転させて前記浮動ヘッドを掃滑浮上させるステップと、X線源にてX線束を発生させるステップと、当該X線束を前記円板と前記浮動ヘッドとの間に向けて照射するステップと、前記円板と前記浮動ヘッドとの間を通過したX線量を、X線検出手段にてX線通過データとして検出するステップと、前記X線通過データを基に前記円板と前記浮動ヘッドとの間の浮上すきま値を解析するステップとを順次踏む、ことを特徴とする浮上すきま測定方法。
IPC (2件):
G01B 15/00 ,  G11B 21/21
FI (2件):
G01B 15/00 A ,  G11B 21/21 M
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭60-014106
  • 特開昭61-132806
  • 撮像装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-342906   出願人:株式会社ニコン
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