特許
J-GLOBAL ID：200903002667312513
プラズマ処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085183
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275601
出願日： 1993年03月22日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 高密度プラズマを安定に生成するとともに、プラズマの不均一性を改善して、大口径の試料に対する表面処理の均一化を図る。【構成】 13はマイクロ波源、14は整合器、15、16は矩形導波管、17はマイクロ源13からのマイクロ波を2つに分岐する矩形導波管である。18、19は内部でマイクロ波の進行方向が外部磁界に垂直でマイクロ波電界が外部磁界に平行になるように配置された矩形導波管である。この矩形導波管18、19は一端に真空を維持するための石英窓である誘電体窓20、21が設けられ、他端は連結用管22と接続されている。41、42はプラズマ生成室6のマイクロ波導入孔23と連通した導入孔である。そして、矩形導波管18、19の接続部分の連結用管22に対向するようにして、マイクロ波導入孔23に向かって反射板40が配設されている。
請求項（抜粋）：
マイクロ波導入孔を有するプラズマ生成室に外部磁界を印加した状態で、マイクロ波が誘電体窓を通って導波管を介して前記プラズマ生成室に供給され、このプラズマ生成室内の原料ガスを電子サイクロトロン共鳴(ECR)によりプラズマ化するプラズマ処理装置において、一端が前記マイクロ波導入孔に連結され、内部でのマイクロ波の進行方向が外部磁界と垂直となるように配置されたマイクロ波導波管を複数個設けるとともに、前記マイクロ波導波管とマイクロ波導入孔が結合する部位にマイクロ波反射板が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31
, H01L 21/205
, H01L 21/302
, H05H 1/46
