表面清浄化方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：脇篤夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-112576
公開番号（公開出願番号）：特開平8-283706
出願日： 1995年04月14日
公開日（公表日）： 1996年10月29日
要約：

【要約】【目的】絶縁体や高抵抗材料の表面清浄化を可能にするとともに、被清浄体の表面に対するダメージを低減する。【構成】照射部12に配置された被清浄体(例えば蛍光体等)の表面にクラスタ発生部2で形成され、イオン化部4でイオン化されたガスクラスタを照射することによって、前記被清浄体の表面に付着した汚れを清浄化するようにする。また、前記被清浄体は蛍光体とし、さらに前記蛍光体は蛍光材料を塗布形成したもの、又は蛍光体薄膜で形成されているものとする。

請求項（抜粋）：