特許
J-GLOBAL ID：200903002706768546

薄膜形成装置及び薄膜形成方法及び液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法及び薄膜構造体の製造装置及び薄膜構造体の製造方法及び液晶装置及び薄膜構造体及び電子機器

発明者：
桜田 和昭

桜田 和昭 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-046295
公開番号（公開出願番号）：特開2003-245579
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年09月02日
要約：
【要約】【課題】 薄膜形成装置及び薄膜形成方法及び液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法及び薄膜構造体の製造装置及び薄膜構造体の製造方法及び液晶装置及び薄膜構造体及び電子機器において、回転手段を用いずとも薄膜の膜厚を容易に制御することができると共に低コスト化及び小型化を図ること。【解決手段】 基板SUB上に塗布液Lを塗布して薄膜を形成する薄膜形成装置であって、基板上に塗布液を吐出する液滴吐出ヘッド1を有する吐出機構2と、該液滴吐出ヘッドと基板との位置を相対的に移動可能な移動機構3と、吐出機構及び移動機構の少なくとも一方を制御する制御部Cとを備え、該制御部は、吐出機構による吐出動作及び移動機構による移動動作の少なくとも一方を制御して塗布液の塗布条件を変え薄膜の膜厚を制御する。
請求項（抜粋）：
基板上に塗布液を塗布して薄膜を形成する薄膜形成装置であって、前記基板上に前記塗布液を吐出する液滴吐出ヘッドを有する吐出機構と、該液滴吐出ヘッドと前記基板との位置を相対的に移動可能な移動機構と、前記吐出機構及び前記移動機構の少なくとも一方を制御する制御部とを備え、該制御部は、前記吐出機構による吐出動作及び前記移動機構による移動動作の少なくとも一方を制御して前記塗布液の塗布条件を変え前記薄膜の膜厚を制御することを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件)：
B05B 13/04 ,  H01L 21/31
FI (2件)：
B05B 13/04 ,  H01L 21/31 A
Fターム (17件)：
4F035AA04 ,  4F035BA22 ,  4F035CA02 ,  4F035CB03 ,  4F035CB13 ,  4F035CB16 ,  4F035CB21 ,  4F035CB26 ,  4F035CD03 ,  4F035CD05 ,  4F035CD08 ,  4F035CD12 ,  5F045BB02 ,  5F045BB08 ,  5F045CA15 ,  5F045EB19 ,  5F045EM10
引用特許：
審査官引用 (6件)
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