特許

J-GLOBAL ID：200903002752914417

レビューシステム

発明者： 水野 文夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079173
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275184
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】チップ単位でレビューすべき微粒子・パターン欠陥を決め、チップ単位で微粒子・パターン欠陥の致命性を把握することが可能となり、該微粒子やパターン欠陥が歩留に及ぼす影響度をより正確に予測できるようにする。【解決手段】チップに分割して使用するための基板を試料とし、該基板上の欠陥をレビューするためのレビューシステムにおいて、(1)各欠陥を種類別に区分するとともに、それらが存在するチップのアドレス番号を付ける機能、(2)各欠陥を、該チップアドレス番号に基づいて、チップ単位にグループ分けする機能、(3)各チップを、該チップに存在する欠陥の種別に応じて、グループ化する機能、(4)チップ・グループ毎に、レビュー対象チップおよびレビュー欠陥を選定する機能を有する。

請求項（抜粋）：

チップに分割して使用するための基板を試料とし、該基板上の欠陥をレビューするためのレビューシステムにおいて、(1)各欠陥を種類別に区分するとともに、それらが存在するチップのアドレス番号を付ける機能、(2)各欠陥を、該チップアドレス番号に基づいて、チップ単位にグループ分けする機能、(3)各チップを、該チップに存在する欠陥の種別に応じて、グループ化する機能、(4)チップ・グループ毎に、レビュー対象チップおよびレビュー欠陥を選定する機能を有するレビューシステム。

IPC (3件)：

G01N 21/88 ,  G01B 15/00 ,  H01L 21/02

FI (3件)：

G01N 21/88 645 A ,  G01B 15/00 B ,  H01L 21/02 A

Fターム (23件)：

2F067AA45 ,  2F067AA62 ,  2F067CC15 ,  2F067CC17 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067LL00 ,  2F067LL16 ,  2F067PP12 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB04 ,  2G051AB07 ,  2G051AC22 ,  2G051BB19 ,  2G051CA11 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB05 ,  2G051EC01