特許
J-GLOBAL ID：200903002784515174
光情報記録媒体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-150759
公開番号（公開出願番号）：特開2002-342993
出願日： 2001年05月21日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：
【要約】【課題】 変調度が大きく、安定した記録再生特性をもつ光情報記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 基板表面に、300nmから450nmに吸収極大をもち、記録レーザー波長での色素固体膜の吸光度が0.07以上ある溶剤溶解性有機化合物を含有する記録層と、光反射層と、基板とをこの順に有し、トラックピッチが300〜600nmで、溝深さが40nm〜150nmで、波長が380〜500nmの光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、基板表面に前記記録層を形成する記録層形成工程と、該記録層の表面に光反射層を形成する光反射層形成工程とを有し、前記記録層形成工程と前記光反射層形成工程との間に、温度を10°C以上40°C未満とし、かつ該温度を1〜12時間保持するアニール工程を設けた光情報記録媒体の製造方法。
請求項（抜粋）：
基板表面に、300nmから450nmに吸収極大をもち、記録レーザー波長での色素固体膜の吸光度が0.07以上ある溶剤溶解性有機化合物を含有する記録層と、光反射層と、基板とをこの順に有し、トラックピッチが300〜600nmで、溝深さが40nm〜150nmで、波長が380〜500nmの光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、基板表面に前記記録層を形成する記録層形成工程と、該記録層の表面に光反射層を形成する光反射層形成工程とを有し、前記記録層形成工程と前記光反射層形成工程との間に、温度を10°C以上40°C未満とし、かつ該温度を1〜12時間保持するアニール工程を設けたことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 7/26 531
, G11B 7/24 522
, G11B 7/24 561
G11B 7/26 531
, G11B 7/24 522 A
, G11B 7/24 561 M
5D029JC01
, 5D029JC03
, 5D029JC20
, 5D029WB11
, 5D029WB17
, 5D029WC01
, 5D029WD11
, 5D121AA01
, 5D121EE23
, 5D121EE28
, 5D121GG08
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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