特許
J-GLOBAL ID：200903002786857218

カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板、電気光学装置および投射型表示装置

発明者：
川上 泰

川上 泰 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-040424
公開番号（公開出願番号）：特開2008-203592
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】高い厚さ精度をもってカラーフィルタを平坦に形成可能なカラーフィルタ基板の製造方法、この方法により製造したカラーフィルタ基板、このカラーフィルタ基板を備えた電気光学装置、およびこの電気光学装置を用いた投射型表示装置を提供すること。【解決手段】隔壁形成層40に形成した凹部41、42、43内を埋めるようにカラーフィルタ材4r、4g、4bを基板10x上に配置した後、隔壁形成層40の上面が露出するまで化学機械研磨を行なって凹部41、42、43内にカラーフィルタ材4r、4g、4bを残すことによりカラーフィルタ4R、4G、4Bを形成する。このため、カラーフィルタ4R、4G、4Bの厚さは、隔壁形成層40に形成した凹部41、42、43の深さに規定される。また、カラーフィルタ4R、4G、4Bの表面は平坦である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に各色のカラーフィルタを備えたカラーフィルタ基板の製造方法において、 前記基板上に形成した隔壁形成層に対して、カラーフィルタを形成すべき領域に凹部を形成する凹部形成工程と、 前記凹部内を埋めるように所定色のカラーフィルタ材を前記基板上に配置するカラーフィルタ材配置工程と、 前記隔壁形成層の上面が露出するまで化学機械研磨を行なって前記凹部の外側にある前記カラーフィルタ材を除去する化学機械研磨工程と、 を行なうことにより、前記凹部内に所定色のカラーフィルタを形成するとともに、 前記凹部形成工程、前記カラーフィルタ材配置工程および前記化学機械研磨工程を複数回繰り返し、前記基板上に各色のカラーフィルタを配置することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/20 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/136 ,  G09F 9/30
FI (4件)：
G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/1368 ,  G09F9/30 349B
Fターム (40件)：
2H048BA02 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BB28 ,  2H048BB37 ,  2H048BB41 ,  2H048BB42 ,  2H091FA04Y ,  2H091FB02 ,  2H091FC15 ,  2H091FC18 ,  2H091FC25 ,  2H091FD04 ,  2H091GA13 ,  2H091LA30 ,  2H091MA07 ,  2H092JA25 ,  2H092JA46 ,  2H092JB58 ,  2H092JB64 ,  2H092JB66 ,  2H092JB69 ,  2H092NA04 ,  2H092NA19 ,  2H092NA25 ,  2H092PA08 ,  2H092RA05 ,  2H191FA06Y ,  2H191FB02 ,  2H191FC22 ,  2H191FC25 ,  2H191FC35 ,  2H191FD04 ,  2H191GA19 ,  2H191LA40 ,  2H191MA11 ,  5C094AA43 ,  5C094BA43 ,  5C094CA24 ,  5C094GB10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM