特許

J-GLOBAL ID：200903002928032955

静電チャック装置

発明者： 桧森 慎司 ,  松山 昇一郎 ,  松浦 淳 ,  稲妻地 浩 ,  三浦 幸夫 ,  牧 恵吾 ,  小坂井 守
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  住友大阪セメント株式会社
代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-218445
公開番号（公開出願番号）：特開2008-042137
出願日： 2006年08月10日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：

【課題】プラズマ処理装置に適用した場合に、プラズマ中の電界強度の面内均一性が向上し、板状試料に対して面内均一性の高いプラズマ処理を行うことができる静電チャック装置を提供する。【解決手段】本発明の静電チャック装置21は、上面31aを板状試料Wを載置する載置面とするとともに静電吸着用内部電極25を内蔵した基体26及び静電吸着用内部電極25に直流電圧を印加する給電用端子27とからなる静電チャック部22と、静電チャック部22に固定されて一体化され高周波発生用電極となる金属ベース部23とを備え、静電吸着用内部電極25の体積固有抵抗を1.0×10-1Ω・cm以上かつ1.0×108Ω・cm以下とした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一主面を板状試料を載置する載置面とするとともに静電吸着用内部電極を内蔵した基体と、この静電吸着用内部電極に直流電圧を印加する給電用端子とを備えた静電チャック部と、 この静電チャック部の基体の他の主面に固定されて一体化され、高周波発生用電極となる金属ベース部とを備え、 前記静電吸着用内部電極の体積固有抵抗は、1.0×10-1Ω・cm以上かつ1.0×108Ω・cm以下であることを特徴とする静電チャック装置。

IPC (4件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/458

FI (4件)：

H01L21/68 R ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101G ,  C23C16/458

Fターム (32件)：

4K030CA04 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA06 ,  5F031HA10 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031PA30 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045EH14 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ09 ,  5F045EJ10 ,  5F045EM05 ,  5F045EM07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板及び電極板製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-025007   出願人：株式会社オクテック, 東京エレクトロン株式会社