フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-301595
公開番号（公開出願番号）：特開2001-117228
出願日： 1999年10月22日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】感光性及び加工性に優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記成分(A)(a)ジカルボン酸化合物のカルボキシル基1個に対して1分子中に平均1個のエポキシ基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量128〜2000のエポキシ基含有エチレン性不飽和モノマー0.8〜1.2モル反応させてなる水酸基含有不飽和化合物、(b)カルボキシル基含有ジオール、(c)ジイソシアネート化合物、(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg、及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

下記成分(A)(a)ジカルボン酸化合物のカルボキシル基1個に対して1分子中に平均1個のエポキシ基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量128〜2000のエポキシ基含有エチレン性不飽和モノマー0.8〜1.2モル反応させてなる水酸基含有不飽和化合物、(b)カルボキシル基含有ジオール、(c)ジイソシアネート化合物、(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg、及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/027 515 , G03F 7/027 513 , C08L 75/14 , H05K 3/06

FI (4件)：

G03F 7/027 515 , G03F 7/027 513 , C08L 75/14 , H05K 3/06 H

Fターム (55件)：

2H025AA01 , 2H025AA13 , 2H025AB13 , 2H025AB15 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC14 , 2H025BC43 , 2H025BC66 , 2H025BC67 , 2H025BC82 , 2H025BC85 , 2H025BC92 , 2H025CB22 , 2H025CB43 , 2H025CB52 , 2H025CB55 , 2H025FA17 , 2H025FA40 , 2H025FA43 , 4J002CH052 , 4J002CK031 , 4J002EA047 , 4J002ED086 , 4J002EE036 , 4J002EH077 , 4J002EH126 , 4J002EH137 , 4J002EL067 , 4J002EN097 , 4J002EP017 , 4J002EU027 , 4J002EU186 , 4J002EU236 , 4J002EU237 , 4J002EV086 , 4J002EV306 , 4J002EW136 , 4J002EZ006 , 4J002FD090 , 4J002GH01 , 4J002GH02 , 4J002GJ01 , 4J002GP03 , 4J002HA05 , 5E339CC01 , 5E339CC02 , 5E339CD01 , 5E339CE12 , 5E339CE19 , 5E339CF16 , 5E339CF17 , 5E339DD02

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開昭56-120718
樹脂組成物、レジストインキ組成物及びその硬化物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-062210 出願人：日本化薬株式会社
光重合性樹脂組成物および硬化物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-227577 出願人：武田薬品工業株式会社

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