特許
J-GLOBAL ID:200903002965284697

無機配向膜の形成方法、無機配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 増田 達哉 ,  朝比 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-310203
公開番号(公開出願番号):特開2005-077925
出願日: 2003年09月02日
公開日(公表日): 2005年03月24日
要約:
【課題】耐光性に優れ、かつ、プレチルト角を発生させることが可能な無機配向膜を提供すること、そのような無機配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること、また、そのような無機配向膜の形成方法を提供すること。【解決手段】本発明の無機配向膜の形成方法は、基材上に、無機配向膜を形成する方法であって、基材上に、主として無機材料で構成された膜を形成する成膜工程と、前記膜の表面に、該表面の垂直方向に対して所定の角度θbだけ傾斜した方向から、イオンビームを照射するミリング工程とを有することを特徴とする。ミリング工程において、前記膜に前記イオンビームを照射することにより、前記膜上に所定の方向性を有する凹部を形成する。ミリング工程における所定の角度θbは、2°以上である。【選択図】図6
請求項(抜粋):
基材上に、無機配向膜を形成する方法であって、 前記基材上に、主として無機材料で構成された膜を形成する成膜工程と、 前記膜の表面に、該表面の垂直方向に対して所定の角度θbだけ傾斜した方向から、イオンビームを照射するミリング工程とを有することを特徴とする無機配向膜の形成方法。
IPC (3件):
G02F1/1337 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34
FI (3件):
G02F1/1337 515 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34 N
Fターム (10件):
2H090HA16 ,  2H090HB02Y ,  2H090HC13 ,  2H090HD14 ,  2H090HD15 ,  2H090MA10 ,  2H090MB12 ,  4K029BA46 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05
引用特許:
出願人引用 (1件)

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