特許
J-GLOBAL ID:200903003061834251

高導電性アニリン系ポリマーの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-024392
公開番号(公開出願番号):特開2000-219739
出願日: 1999年02月01日
公開日(公表日): 2000年08月08日
要約:
【要約】【課題】 如何なるpHの水または有機溶剤に対しても優れた溶解性を示し、高導電性、高分子量、高純度で、塗布性および膜強度が優れた高導電性アニリン系ポリマーの製造法。【解決手段】 スルホン酸基またはカルボキシル基置換アニリン、そのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩よりなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物(イ)を、塩基性化合物(ロ)と、溶剤(ハ)を含む溶液中で酸化剤で重合し、アニリン系ポリマーを製造する方法において、上記(イ)に対して酸化剤がモル比で等モル以上存在している系にて重合を行う。
請求項(抜粋):
一般式(1)【化1】(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 は水素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ基およびハロゲンよりなる群から選ばれ、その少なくとも一つは酸性基を示す。また、ここで酸性基とはスルホン酸基またはカルボキシル基を示す。)で表される酸性基置換アニリン、そのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩よりなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物(イ)を、塩基性化合物(ロ)と、溶剤(ハ)を含む溶液中で酸化剤で重合し、一般式(2)【化2】(式中、R6 ,R7 ,R8 ,R9 は水素、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖または分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ基およびハロゲンよりなる群から選ばれ、その内少なくとも一つは酸性基を示す。また、ここで酸性基とはスルホン酸基またはカルボキシル基を示す。)で表される構造単位を含有する平均重合度n=10以上且つ、重量平均分子量5000以上であるアニリン系ポリマーを製造する方法において、上記(イ)に対して酸化剤がモル比で等モル以上存在している系にて重合を行うことを特徴とする高導電性アニリン系ポリマーの製造法。
Fターム (31件):
4J043PA02 ,  4J043PC066 ,  4J043PC116 ,  4J043PC136 ,  4J043PC166 ,  4J043PC186 ,  4J043QB02 ,  4J043RA08 ,  4J043SA03 ,  4J043SA05 ,  4J043SA51 ,  4J043SA62 ,  4J043SA71 ,  4J043SA72 ,  4J043SA82 ,  4J043SB01 ,  4J043UA121 ,  4J043UB241 ,  4J043VA011 ,  4J043XA12 ,  4J043XA13 ,  4J043XA28 ,  4J043XB13 ,  4J043XB27 ,  4J043YA03 ,  4J043ZA44 ,  4J043ZB01 ,  4J043ZB03 ,  4J043ZB04 ,  4J043ZB47 ,  4J043ZB49
引用特許:
審査官引用 (6件)
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