特許
J-GLOBAL ID：200903003062026060
施工済み配管系の内面を不動態化処理する方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北谷 寿一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-000982
公開番号（公開出願番号）：特開2003-201554
出願日： 2002年01月08日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：
【要約】【課題】 既設配管や増設配管でも容易に不動態化処理できる処理方法を提供する。【解決手段】 配管を済ませた半導体製造設備や医薬品製造装置等の配管系(1)を新設または増設した際に、該新設または増設した配管系(1)に、オゾンガス源(8)、オゾンガス分解器(9)、真空ポンプ(10)及び計器類を具備したオゾン処理ユニット(4)を持参接続し、配管系(1)の内面にオゾンガスを作用させて、配管系(1)の内面での接ガス面を不動態化処理する
請求項（抜粋）：
施工を済ませた配管系(1)に、オゾンガス源(8)、オゾンガス分解器(9)、真空ポンプ(10)及び計器類を具備したオゾン処理ユニット(4)を持参接続し、配管系(1)の内面にオゾンガスを作用させて、配管系(1)の内面を不動態化処理する施工済み配管系の内面を不動態化処理する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
3H024EA01
, 3H024EC15
, 3H024ED08
, 3H024EE01
