特許

J-GLOBAL ID：200903003196633043

基板処理装置

発明者： 船吉 俊充 ,  谷出 敦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-079776
公開番号（公開出願番号）：特開2009-238807
出願日： 2008年03月26日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：

【課題】動的な機構を付加することなく、基板の表面において超音波振動が伝播しない領域を低減し、基板の表面を均一に洗浄できる基板処理装置を提供する。【解決手段】内槽11の側壁11b,11dに、傾斜面14a,15aを有する反射部材14,15を設ける。内槽11の側部付近に付与された超音波振動は、反射部材14,15の傾斜面14a,15aにおいて反射し、支持棒211〜213の上方の領域に伝播する。このため、これらの領域にも超音波振動が伝播し、基板Wの表面において超音波振動が伝播しない領域が低減される。これにより、基板Wの表面を均一に洗浄できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理液中に基板を浸漬しつつ基板に超音波振動を付与することにより、基板の表面からパーティクルを除去する基板処理装置であって、 処理液を貯留する処理槽と、 前記処理槽の内部において基板を下方から支持する基板支持部と、 前記処理槽の内部に処理液を供給するノズルと、 前記処理槽の下方位置から前記処理槽の内部へ向けて超音波振動を付与する超音波振動付与部と、 を備え、 前記処理槽の側壁または前記側壁の近傍に、前記超音波振動付与部から付与された超音波振動を前記基板支持部の上方位置へ向けて反射させる傾斜面が形成されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

H01L21/304 642E ,  H01L21/68 N

Fターム (25件)：

5F031CA02 ,  5F031HA24 ,  5F031HA42 ,  5F031HA45 ,  5F031HA73 ,  5F031MA23 ,  5F157AA73 ,  5F157AB03 ,  5F157AB13 ,  5F157AB34 ,  5F157AB42 ,  5F157AB94 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB07 ,  5F157BB13 ,  5F157BB22 ,  5F157BB33 ,  5F157BB73 ,  5F157CE86 ,  5F157CF10 ,  5F157DB02 ,  5F157DB37 ,  5F157DC51 ,  5F157DC90

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 超音波洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-146755   出願人：シャープ株式会社