特許
J-GLOBAL ID：200903003212406346

ガスハイドレート脱水機

発明者：
鴇巣 哲

鴇巣 哲 について

, 
一島 壽雄

一島 壽雄 について

, 
加藤 裕一

加藤 裕一 について

, 
新井 敬

新井 敬 について

, 
中村 喜久男

中村 喜久男 について


出願人/特許権者：
三井造船株式会社

三井造船株式会社 について


代理人 (3件)： 小川 信一 ,  野口 賢照 ,  斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-198227
公開番号（公開出願番号）：特開2004-035840
出願日： 2002年07月08日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】ガスハイドレートに付着している付着水を化学的に除去するガスハイドレート脱水機を提供する。【解決手段】ガスハイドレートに付着している付着水を除去する脱水機である。ガスハイドレートaを導入する脱水槽2と、該脱水槽2内に天然ガス等の反応ガスbを供給する反応ガス供給手段21と、該脱水槽2内に導入したガスハイドレートaを攪拌する攪拌手段8と、ガスハイドレートaに付着している付着水と反応ガスbとが再反応した時に発生する反応熱を除去する反応熱除去手段5と、ガスハイドレートaの滞留時間を設定する滞留時間設定手段9とから構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ガスハイドレートに付着している付着水を除去する脱水機において、前記ガスハイドレートを槽内に導入して攪拌するとともに、前記槽内にメタンガスや天然ガス等の反応ガスを導入してガスハイドレートに付着している付着水と再反応させ、この反応により新たなガスハイドレートを生成させることによってガスハイドレートに付着している付着水を除去し、かつ、反応時に生じた反応熱を反応熱除去手段により除去することを特徴とするガスハイドレート脱水機。
IPC (4件)：
C10L3/06 ,  B01J19/00 ,  C10L3/10 ,  F17C11/00
FI (6件)：
C10L3/00 A ,  B01J19/00 A ,  B01J19/00 D ,  B01J19/00 321 ,  F17C11/00 B ,  C10L3/00 B
Fターム (13件)：
3E072EA10 ,  4G075AA03 ,  4G075AA22 ,  4G075BA01 ,  4G075BD22 ,  4G075CA51 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC09 ,  4G075ED01 ,  4G075ED03
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM