特許

J-GLOBAL ID：200903003251955985

階層的規則構造を構築するブロックコポリマー

発明者： 早川 晃鏡 ,  堀内 伸
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-322688
公開番号（公開出願番号）：特開2005-097625
出願日： 2004年11月05日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】階層的規則構造を構築するブロックコポリマーを提供すること 【解決手段】 液晶構造、相分離構造、散逸構造に基づく特定の分子構造を組み合わせたブロックコポリマーを用いることにより、薄膜中に、それぞれの規則構造が高度に組合わさった階層構造を構築する。 【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式

IPC (3件)：

C08F297/02 ,  B29C41/12 ,  C08J5/18

FI (3件)：

C08F297/02 ,  B29C41/12 ,  C08J5/18

Fターム (29件)：

4F071AA33X ,  4F071AA75 ,  4F071AH12 ,  4F071AH17 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4F205AA21 ,  4F205AA21A ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205AG20 ,  4F205AH33 ,  4F205AH81 ,  4F205AJ03 ,  4F205AJ06 ,  4F205GA06 ,  4F205GB01 ,  4F205GC06 ,  4F205GE24 ,  4F205GF24 ,  4F205GN22 ,  4F205GN29 ,  4J026HA11 ,  4J026HA39 ,  4J026HB11 ,  4J026HB39 ,  4J026HE01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光学式データ記憶用ブロックコポリマー
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-500970   出願人：バイエルアクチェンゲゼルシャフト