特許
J-GLOBAL ID：200903003311318114
膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-053358
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258828
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【目的】 直接パターン状の膜形成ができ、緻密な膜質が得られ、生産性の高い回路基板用の膜形成方法の提供。【構成】 高真空室12内に設けた蒸気ビーム発生室4で膜材料6を加熱して蒸気を発生させ、この蒸気をノズル7から蒸気ビーム8として高真空室12内に配設した基板1にパターン状に照射して、蒸着膜15を形成する。
請求項（抜粋）：
高真空室内に設けた蒸気ビーム発生室で膜材料を加熱して蒸気を発生させ、この蒸気をノズルから蒸気ビームとして高真空室内に配設した基板にパターン状に照射して、蒸着膜を形成することを特徴とする膜形成方法。
IPC (3件)：
C23C 14/24
, H01B 13/00 503
, H01L 21/30
