膜形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-053358
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258828
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：

【要約】【目的】直接パターン状の膜形成ができ、緻密な膜質が得られ、生産性の高い回路基板用の膜形成方法の提供。【構成】高真空室12内に設けた蒸気ビーム発生室4で膜材料6を加熱して蒸気を発生させ、この蒸気をノズル7から蒸気ビーム8として高真空室12内に配設した基板1にパターン状に照射して、蒸着膜15を形成する。

請求項（抜粋）：

高真空室内に設けた蒸気ビーム発生室で膜材料を加熱して蒸気を発生させ、この蒸気をノズルから蒸気ビームとして高真空室内に配設した基板にパターン状に照射して、蒸着膜を形成することを特徴とする膜形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/24 , H01B 13/00 503 , H01L 21/30

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-036948
特開平4-085913
レーザー堆積法を用いた成膜方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-128426 出願人：新日本製鐵株式会社

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