特許
J-GLOBAL ID:200903003313719523

クリーンな製品の製造方法及び製造装置。

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-103074
公開番号(公開出願番号):特開2003-300025
出願日: 2002年04月04日
公開日(公表日): 2003年10月21日
要約:
【要約】【課題】塵芥の付着が極めて少ないクリーンな製品、とくにクリーンなプラスチックフィルムの製造方法とこれに用いる製造装置を提供する。【解決手段】クリーニング対象のフィルムを、超音波で振動させつつ界面活性剤を含有する洗浄液で洗浄した後、フィルム両面に、エアノズルが、スリットノズル又は直列多孔ノズルであって、フィルムの進行方向前方から斜めにエアの吹き付けて乾燥することでクリーンな製品が得られる。
請求項(抜粋):
クリーニング対象物である製品を界面活性剤を含む水で洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で洗浄された製品にエアノズルからエアを吹き付けて、これを乾燥する乾燥工程とを含むことを特徴とするクリーンな製品の製造方法。
IPC (4件):
B08B 3/08 ,  B08B 3/12 ,  F26B 13/28 ,  H05K 3/26
FI (4件):
B08B 3/08 Z ,  B08B 3/12 A ,  F26B 13/28 ,  H05K 3/26 A
Fターム (24件):
3B201AA08 ,  3B201BB02 ,  3B201BB62 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  3L113AB09 ,  3L113AC36 ,  3L113BA34 ,  3L113DA24 ,  5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA33 ,  5E343CC32 ,  5E343CC55 ,  5E343EE04 ,  5E343EE05 ,  5E343EE12 ,  5E343EE20 ,  5E343FF23 ,  5E343GG20

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