特許
J-GLOBAL ID：200903003365990330

走査型反射屈折投影露光装置

発明者：
高橋 友刀

高橋 友刀 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-137641
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349699
出願日： 1993年06月08日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 ビームスプリッターを用いること無く、反射系と屈折系とを用いて構成され、且つ光束のケラレの少ない高い開口数の反射屈折投影光学系を使用した、結像性能の優れたスリットスキャン露光方式の投影露光装置を提供する。【構成】 照明領域23内のパターン24からの光が、第1収斂群G1 を経て、中央に細長い開口S1 が形成された平面ミラーM1 に達し、平面ミラーM1 で反射された後、第2収斂群G2 により反射された光束Aが、平面ミラーM1 の細長い開口S1 内に、パターン24の中間像24Aを結像する。その中間像24Aからの光束が、第3収斂群G3 を介して、ウエハ25上に中間像24Aの像24Bを結像する。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターン中のスリット状の照明領域内のパターンの像を基板側に投影する投影光学系を有し、前記スリット状の照明領域に対して所定方向に前記マスクを走査し、前記スリット状の照明領域と共役な露光領域に対して前記マスクと同期して前記基板を走査することにより、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に投影露光する投影露光装置において、前記投影光学系を、前記マスクのパターンの中間像を結像する第1部分結像光学系と、前記中間像の像を前記基板上に結像する第2部分結像光学系とより構成し、前記第1部分結像光学系を、前記スリット状の照明領域内の前記マスクのパターンからの光束を収斂する正の屈折力を有する第1収斂群と;光軸に対して斜めに配置され、第1の領域の光を通過させ該第1の領域とは異なる第2の領域の光を反射することにより、前記第1収斂群からの光束を後続の光学系に導く選択光学系と;凹面反射鏡を含み、前記選択光学系からの光束を反射して前記選択光学系の前記第1の領域又は前記第2の領域内のスリット状の領域に前記パターンの中間像を結像する正の屈折力を持つ第2収斂群と;より構成したことを特徴とする走査型反射屈折投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G02B 13/24 ,  G02B 17/08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
  • 特開昭63-163319
  • 特開昭63-163319
  • 特開昭63-163319
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