特許

J-GLOBAL ID：200903003394689453

多孔質高分子膜の製造方法

発明者： 佐々木 重邦 ,  山田 典義 ,  山本 二三男
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 雨宮 正季
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-211446
公開番号（公開出願番号）：特開平11-021369
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】 微細空孔を有する多孔質高分子膜を簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】 粒径50nm以下の微粒子が分散している高分子材料から微粒子を除去することを特徴とする。【効果】 微細空孔を有する多孔質高分子膜を簡便に得ることができる。この微細空孔を有する多孔質高分子膜を用いて例えばセンサへの応用等の発展が期待できる。

請求項（抜粋）：

粒径50nm以下の微粒子が分散している高分子材料から微粒子を除去することを特徴とする多孔質高分子膜の製造方法。

IPC (3件)：

C08J 9/26 101 ,  C08J 9/26 CFG ,  C08G 73/10

FI (3件)：

C08J 9/26 101 ,  C08J 9/26 CFG ,  C08G 73/10

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平2-261837
  
• 特開昭56-011931
  
• 多孔性高分子ゲル材料の製造方法、及び多孔性高分子ゲル材料製造用の配合組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-223790   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開平2-261837
  
• 特開昭56-011931