特許
J-GLOBAL ID：200903003553246428
光重合性組成物及び光重合性積層体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294509
公開番号（公開出願番号）：特開平11-133597
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 アルカリ現像に必要な特性を備えており、印刷回路板作製用レジストとして用いられるエッチング、テンティング、メッキの各工程において十分な耐久性を有し、特にメッキ工程において優れた耐性を示し、剥離性も良好で、硬化膜が柔軟性に富んでいる光重合性組成物及び光重合性積層体を提供する。【解決手段】 (a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600、重量平均分子量が2万〜50万の線状重合体5〜93重量%、(b)下記式(I)で示される光重合可能な不飽和化合物5〜93重量%及び【化1】(式中、R1及びR2はH又はCH3であり、これらは同一であっても相違してもよい。また、A及びBは-CH(CH3)CH2-若しくは-CH2CH(CH3)-又は-CH2CH2-であり、A及びBは異なるものである。l1、l2、m1、m2、n1及びn2は、l1+l2が2〜20、m1+m2が2〜20、n1+n2が2〜20の範囲にある正の整数である。)(c)光重合開始剤0.01〜30重量%を含有する光重合性組成物及びこれを用いた光重合性積層体。
請求項（抜粋）：
(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600、重量平均分子量が2万〜50万の線状重合体5〜93重量%、(b)下記式(I)で示される光重合可能な不飽和化合物5〜93重量%及び【化1】(式中、R1及びR2はH又はCH3であり、これらは同一であっても相違してもよい。また、A及びBは-CH(CH3)CH2-若しくは-CH2CH(CH3)-又は-CH2CH2-であり、A及びBは異なるものである。l1、l2、m1、m2、n1及びn2は、l1+l2が2〜20、m1+m2が2〜20、n1+n2が2〜20の範囲にある正の整数である。)(c)光重合開始剤0.01〜30重量%を含有することを特徴とする光重合性組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/027 502
, B32B 27/30
, C08F 2/44
, C08F290/00
, C08F291/06
, G03F 7/004 512
, G03F 7/033
, H05K 3/06
, C08F 2/50
G03F 7/027 502
, B32B 27/30 Z
, C08F 2/44 C
, C08F290/00
, C08F291/06
, G03F 7/004 512
, G03F 7/033
, H05K 3/06 J
, C08F 2/50
