特許

J-GLOBAL ID：200903003571608566

フルオレン誘導体の製造方法

発明者： 村瀬 裕明 ,  山田 光昭 ,  須田 康裕 ,  緒方 和幸
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 鍬田 充生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-231111
公開番号（公開出願番号）：特開2002-047227
出願日： 2000年07月31日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】【課題】 透明性に優れた高純度なフルオレン誘導体を、取扱いの難しい塩化水素ガスを使用することなく、安価かつ簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】 フルオレノンとフェノール類(2-C1-4アルキルフェノールなど)とを、チオール類および塩酸水の共存下で縮合反応させて、フルオレン誘導体[9,9-ビス(C1-4アルキルヒドロキシフェニル)フルオレンなど]を製造する。フルオレノンとチオール類との割合(重量比)は、フルオレノン/チオール類=1/0.01〜1/0.5程度であり、チオール類と塩酸水中の塩酸との割合(重量比)は、チオール類/塩酸=1/0.1〜1/3程度である。チオール類としては、メルカプトカルボン酸(β-メルカプトプロピオン酸)が使用できる。

請求項（抜粋）：

フルオレノンと式(I)で表されるフェノール類とを、チオール類および塩酸水の共存下で縮合反応させて、式(II)で表されるフルオレン誘導体を製造する方法。【化1】【化2】(式中、Rはアルキル基、アルコキシ基、アリール基又はシクロアルキル基を表す。nは0〜2の整数を表す)

IPC (6件)：

C07C 39/17 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 37/20 ,  C08G 59/04 ,  C08G 63/199 ,  C08G 64/06

FI (6件)：

C07C 39/17 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 37/20 ,  C08G 59/04 ,  C08G 63/199 ,  C08G 64/06

Fターム (31件)：

4H006AA02 ,  4H006AC25 ,  4H006AC42 ,  4H006AD15 ,  4H006AD17 ,  4H006BA28 ,  4H006BA37 ,  4H006BA52 ,  4H006BB11 ,  4H006BB61 ,  4H006BC10 ,  4H006BC31 ,  4H006FC56 ,  4H006FE13 ,  4H039CA19 ,  4H039CA60 ,  4H039CG10 ,  4J029AA03 ,  4J029AA09 ,  4J029AB07 ,  4J029AE03 ,  4J029AE04 ,  4J029AE05 ,  4J029BD09A ,  4J029BD09B ,  4J029KA02 ,  4J029KA03 ,  4J036AD03 ,  4J036AD04 ,  4J036AD11 ,  4J036JA15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フルオレンビスフェノールの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-032223   出願人：ヴアイル・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
• 9,9-ビス(ヒドロキシアリール)フルオレンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-278916   出願人：川口薬品株式会社
• フルオレン化合物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-015929   出願人：大阪瓦斯株式会社
• フルオレン化合物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-015924   出願人：大阪瓦斯株式会社